为客户提供全面的设备和工艺解决方案

• 薄膜沉积 • 薄膜刻蚀 • 定制设备

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AVP IBE System
- 广泛适用所有材料刻蚀,包括RIE难以刻蚀的Au、Pt、Mo等难熔金属、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多层膜、倾斜光栅等。
- 成熟、可靠、低成本、高产能、7/24连续运行的薄膜刻蚀系统
- 欧美工业生产验证的、多种成熟的薄膜刻蚀工艺
- 杰出的薄膜刻蚀均匀性和重复性
- 广泛适用所有材料刻蚀,包括RIE难以刻蚀的Au、Pt、Mo等难熔金属、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多层
AVP HR PVD System
-高浓度离子辅助的倾角溅射(Directional Sputtering)
-高速率反应溅射,如Al2O3的沉积速率 > 1nm/s
-优异的薄膜厚度均匀性(1σ<1%),裹覆率(Step Coverage ~50%)
-基片背面氦气冷却,基片温度(<50°C)
-高靶材使用率(>80%)
-高浓度离子辅助的倾角溅射(Directional Sputtering)
-高速率反应溅射,如Al2O3的沉
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"关于艾微普
为客户提供全面的设备和工艺解决方案
专注打造世界先进水平的高端微纳器件、半导体、及新能源加工设备
公司由美国硅谷企业家团队与国内著名上市企业天通公司(TDG)合作,在浙江海宁创立。公司聚集了多位海内外资深微纳加工及半导体设备、工艺、材料专家,专注打造世界先进水平的高端微纳器件、半导体、及新能源加工设备。

公司的核心技术和产品包括物理气相沉积/磁控溅射(PVD)、离子束刻蚀机(IBE)、反应离子刻蚀机(RIE)等系列MEMS、半导体、新能源器件制造专用设备。公司自创立以来,已经获得几十项国家专利。