浙江艾微普科技有限公司

AVP IBE System

- 广泛适用所有材料刻蚀，包括RIE难以刻蚀的Au、Pt、Mo等难熔金属、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多层膜、倾斜光栅等。
- 成熟、可靠、低成本、高产能、7/24连续运行的薄膜刻蚀系统
- 欧美工业生产验证的、多种成熟的薄膜刻蚀工艺
- 杰出的薄膜刻蚀均匀性和重复性

- 广泛适用所有材料刻蚀，包括RIE难以刻蚀的Au、Pt、Mo等难熔金属、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多层膜、倾斜光栅等。
- 成熟、可靠、低成本、高产能、7/24连续运行的薄膜刻蚀系统
- 欧美工业生产验证的、多种成熟的薄膜刻蚀工艺
- 杰出的薄膜刻蚀均匀性和重复性
- 纯物理刻蚀，采用惰性气体为工艺气体，环保、无污染，应用广泛

浏览更多

AVP HR PVD System

-高浓度离子辅助的倾角溅射（Directional Sputtering）
-高速率反应溅射，如Al2O3的沉积速率 > 1nm/s
-优异的薄膜厚度均匀性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
-基片背面氦气冷却，基片温度（<50°C）
-高靶材使用率（>8

-高浓度离子辅助的倾角溅射（Directional Sputtering）
-高速率反应溅射，如Al2O3的沉积速率 > 1nm/s
-优异的薄膜厚度均匀性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
-基片背面氦气冷却，基片温度（<50°C）
-高靶材使用率（>80%）

浏览更多

AVP 4T PVD SYSTEM

-各种薄膜、精密光学薄膜，及高温（Max. 1000℃）沉积的解决方案
-各种成熟的、2-8英寸的RF、DC、Pulsed DC、反应等薄膜沉积工艺
-成熟、可靠、低成本、高产能、7/24连续运行的薄膜沉积系统
-广泛应用于欧美光学器件、MEMS、存储等工业界的薄膜沉积

浏览更多